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双栅氧CMOS工艺研究

期刊名字：微电子学与计算机
文件大小：864kb
论文作者：李桦，宋李梅，杜寰，韩郑生
作者单位：中国科学院微电子研究所
更新时间：2020-10-22
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双栅氧工艺高压CMOS流程